英特爾買最強EUV 台積慘了?專家爆真相

半導體生產設備大廠艾司摩爾(ASML)上周宣布,英特爾成為首家下訂最先進的高數值孔徑(High-NA)極紫外光(EUV)微影設備的客戶。雙方突大動作宣布合作引起市場熱議,韓媒則認為英特爾此舉是想要降低市場對其晶圓代工技術的質疑。

南韓經濟日報報導,英特爾訂購EUV曝光設備比台積電3奈米製程的EUV設備更為先進,不少專家認為,英特爾可能會透過這些設備生產2奈米製程晶片,英特爾也在聲明中表示,新一代的EUV機台可使晶圓製造速率每小時將超過 200片,是發展先進製程的重要一環。

英特爾與艾司摩爾大動作公開雙方合作計畫,報導引述市場人士意見指出,英特爾在先進製程的腳步並不穩定,突然宣布合作關係,目的是減少市場對英特爾技術質疑的壓力,但最終是否能夠如英特爾所願還有待觀察。

此外,由於英特爾成為艾司摩爾最先進製造設備的首位客戶,投資研究機構Semiconductor Advisors分析師Robert Maire認為,如果英特爾可以搶先採用這些工具,可能是在摩爾定律的競賽當中,有機會超車台積電的好機會。


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