不及大廠標準? 韓媒曝三星5奈米良率出包

晶圓代工領域先進製程之爭,目前僅剩下台積電、三星電子以及英特爾有能力競爭,然而,近期外媒卻爆料,三星的5奈米製程良率竟遠遠低於合格的95%,而且是位於華城的V1廠,於2020年2月啟動生產、為全球首座在7奈米以下製程採用極紫外光(EUV)曝光機的半導體工廠,為全球首座將極紫外光(EUV)微影設備的生產線。

據《BusinessKorea》報導,晶圓代工廠製程良率為取得訂單的關鍵,一般來說良率達到95%才算合格,但傳出三星V1廠良率竟達不到50%。市調機構TrendForce指出,今年第一季以台積電56%市占率高居第一,三星雖排名第二,但僅有18%的市占率,多年以來,三星都無法超越20%門檻。

據韓國民族日報先前報導,有「韓國半導體先生」稱號的專家陳大濟(Dae-Je Chin)認為,,台積電與三星在本質上就有差異,台積電專攻代工項目,三星則擁有自產半導體產品的能力,這會與客戶產生競爭關係,除非三星願意將相關業務拆成獨立公司,或許有機會達到台積電的一半規模,但不太可能直接超越台積電。

不過,三星於2019年4月24日公布「半導體願景2030」,打算在2030年成為全球系統半導體龍頭,預計砸1160億美元發展該公司的晶圓代工業務,打算利用EUV技術超越台積電,近期也宣布順利在3奈米製程採用環繞閘極技術(Gate-All-AroundGAA)流片,預計在2022年量產。

不過,台積電也預計在今年下半年推出5奈米製程強效版,台積電2021技術論壇上,台積電總裁魏哲家宣布,4奈米製程預計至2021年第三季開始試產,較先前規畫早一季時間,3奈米製程預計於2022年下半年量產。

文章來源:businesskorea

( 中時新聞網 呂承哲)


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