濾能 上櫃首日僅小紅

半導體防微污方案廠濾能(6823)30日以每股98.6元正式掛牌上櫃,受到台股大跌影響,蜜月行情不如預期,終場股價上漲1.4元,以100元作收,首日漲幅僅1.4%。法人指出,包括台積電、美光、南亞科等半導體廠均積極轉換採用綠色製程,濾能AMC防微污方案已獲採用,可望帶動今年營收及獲利表現逐季成長。

濾能第一季營收達2.48億元,稅後淨利1,382萬元,每股淨利0.78元。受惠於半導體廠擴大先進製程晶圓廠投資,濾能第二季營運轉旺,5月合併營收月增15.9%達0.94億元,較去年同期成長51.7%,累計前五個月合併營收4.23億元,較去年同期成長52.5%。

濾能指出,在先進製程線寬線徑愈來愈窄之下,AMC對於製程良率的影響持續增加,AMC污染防治工具已成為先進製程的標準配備。濾能主力產品模組化化學濾網,主要應用區域為無塵室風扇過濾單元,尤以12吋先進製程廠區為大宗,在國內10奈米以下先進製程市場占有率已近五成。

隨著先進製程廠房擴增、製程升級,將使AMC防治廠房及機台濾網耗材更換需求頻率上升,濾能看好所提供的AMC防治產品需求也必然大幅提升,對下半年及明年營運動能相當樂觀。

濾能表示,AMC防治是半導體先進製程不可忽視的議題,尤其是製程微縮至5奈米以下,大約只要5~17個污染氣體分子沉積,就可占滿5奈米線寬並造成良率降低,而且隨著半導體電晶體結構在3奈米或2奈米轉換至環繞閘極(GAA),微污染對良率影響更加敏感,所以AMC防治已是維持先進製造環境潔淨度不可或缺的重要綠色製程方案。

法人表示,晶圓代工龍頭近年來積極轉換採用綠色製程,並在去年向供應商提出將會把供應鏈碳足跡與減碳績效納入其重要採購指標,至於旺宏、美光、南亞科等記憶體廠,新建生產線亦優先採用綠色製程。濾能AMC方案已超前部署,並搭上綠色製程潮流產業趨勢,未來在先進製程技術持續推動下,加上全球先進製程競賽驅動半導體廠積極擴建,南科新廠產能到位後,供應客戶新建廠和再生濾網需求,可望同步帶動營收及獲利表現。