EUV概念股 5檔訂單滿到下半年

台積電2021年資本支出上看250~280億美元,三星的半導體事業資本支出傳出上看300億美元,業界預期,包括英特爾、SK海力士、美光等大廠亦將調升資本支出。由於半導體大廠2021年資本支出將會集中投資在極紫外光(EUV)的產能建置,為EUV供應鏈帶來強勁需求,包括家登、帆宣、崇越、華立、公準等EUV概念股營運看旺。

半導體市場在2020年面臨新冠肺炎疫情及美中貿易戰等外在環境影響,但數位轉型加速,各半導體大廠同步加快EUV製程量產,並大幅拉高2021年資本支出擴建EUV新產能。除了台積電將2021年資本支出拉升至250~280億美元,三星傳出年度資本支出上看300億美元,業界預期英特爾、美光、SK海力士會持續加碼資本支出。

台積電及三星等半導體大廠均已導入EUV技術並建置全新生產線,帶動EUV曝光機強勁出貨動能,法人看好極紫外光光罩盒(EUV Pod)供應商家登、EUV機台次系統模組代工廠帆宣、EUV光阻液供應商崇越及華立、EUV曝光機精密零件供應商公準等EUV概念股2021年接單暢旺,訂單能見度直達下半年。

微影設備大廠艾司摩爾(ASML)執行長Peter Wennink在法說會中表示,2021年營運展望樂觀,同時邏輯及DRAM先進製程持續推進,為2021年EUV設備帶來強勁的成長動能。

2020年採用ASML的EUV曝光機共完成2600萬片晶圓曝光,其中在2020年第四季的EUV曝光晶圓數量就高達900萬片,業界預期2021年第一季就可望突破1,000萬片規模。ASML計劃2021年發布新一代EUV曝光機NXE: 3600D,可提升生產力達18%,EUV設備在手訂單規模已達62億歐元,預期2021年EUV相關營收規模將較2020年成長30%達58億歐元。

此外,ASML的EUV曝光機年度產能已提升至50台,次世代高解析度EUV技術研發持續進行,全新Hign-NA規格EUV曝光機預計可在2023年交貨予半導體廠風險生產,預期在2025~2026年可協助客戶進入量產階段。


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